Cassification
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通過此文,可了解GP-ME內(nèi)外循環(huán)真空均質(zhì)乳化機是什么?
產(chǎn)品展示/ Product display
負極非碳材料高速研磨機是鋰電負極加工專用設備,通過高速研磨組件產(chǎn)生強剪切力,破除非碳材料團聚顆粒,實現(xiàn)均勻分散。具有研磨細度高、分散效率優(yōu)、能保障材料電化學性能的特點,廣泛用于硅基、鈦基等負極非碳材料的制備環(huán)節(jié)。
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負極非碳材料高速研磨機
負極材料通常分為碳材料和非碳材料兩類,其中碳材料包括人造石墨、天然石墨、中間相炭微球等;非碳材料包括氮化物、硅基材料、合金材料等。
納米材料是指材料在某一維、二維或三維方向上的尺度達到納米尺度。納米材料可以分為零維材料、一維材料、二維材料、三維材料。
零維材料是指電子無法自由運動的材料,如量子點、納米顆粒與粉末。
一維材料是指電子僅在一個非納米尺度方向上自由運動(直線運動),如納米線性結材料、量子線,代表的是碳納米管(carbon nanotube)。
三維材料是指電子可以在三個非納米尺度上自由運動,如納米粉末高壓成型或控制金屬液體結晶而得到的納米晶粒結構(納米結構材料)。
研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將SID膠體磨進行進一步的改良,在原來GM2000系列研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。
GMD2000研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
GMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
研磨分散機的特點:
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念,將先進的技術與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中,為設備穩(wěn)定運行提供了保證.
新結構 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供chao強切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.
更可靠 采用整體式機械密封,程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術 采用國際xian進的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
負極非碳材料高速研磨機
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